CVD法で析出させたTiO<sub>2</sub>膜の物理的および電気的性質に対する少量の添加水の影響

FUYUKI T; KOBAYASHI T; MATSUNAMI H

文献

J-GLOBAL ID：200902090532518874 整理番号：88A0216899

CVD法で析出させたTiO₂膜の物理的および電気的性質に対する少量の添加水の影響

Effects of small amount of water on physical and electrical properties of TiO₂ films deposited by CVD method.

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巻： 135 号： 1 ページ： 248-250 発行年： 1988年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

水の規制量(P_W)をソースガスに加えて...

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酸化物薄膜

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CVD法で析出させたTiO2膜の物理的および電気的性質に対する少量の添加水の影響

CVD法で析出させたTiO₂膜の物理的および電気的性質に対する少量の添加水の影響