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J-GLOBAL ID：200902091241205298   整理番号：88A0527606

半導体ウエーハの汚れを見る

Detecting dust on semiconductor wafers.
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著者 (1件)：
小西義一

小西義一 について

(東京光学機械)

東京光学機械 について


資料名：
Surface Control & 洗浄設計

Surface Control & 洗浄設計 について


号： 37  ページ： 2-9  発行年： 1988年 
JST資料番号： Y0281A  ISSN： 0911-3916  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
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半導体製造工程のゴミ管理と,光散乱方式によるゴミの検出原理に...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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ウエハ【IC】

ウエハ【IC】 について

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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス一般 
(NC03010Z)

固体デバイス一般 について

タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
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半導体ウエーハ

半導体ウエーハ について

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汚れ

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