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J-GLOBAL ID:200902091686030986   整理番号:86A0267276

低温における半導体中の再結合と衝突イオン化による負性微分伝導率

A negative differential conductivity due to recombination and impact ionization in semiconductors at low temperatures.
著者 (1件):
資料名:
巻: 39  号:ページ: 123-127  発行年: 1986年02月 
JST資料番号: D0256C  ISSN: 0947-8396  CODEN: APHYCC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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衝突イオン化の確率と再結合時間は電界Eと共に単調に増加するこ...
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半導体結晶の電気伝導 
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