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J-GLOBAL ID：200902091905475409   整理番号：89A0518935

ULSIリフローガラス薄膜用オゾン/有機ソースAPCVD

Ozone/organic-source APCVD for ULSI reflow glass films.
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著者 (3件)：
IKEDA Y

IKEDA Y について

(NEC Corp., JPN)

NEC Corp., JPN について

, 
NUMASAWA Y

NUMASAWA Y について

(NEC Corp., JPN)

NEC Corp., JPN について

, 
SAKAMOTO M

SAKAMOTO M について

(NEC Corp., JPN)

NEC Corp., JPN について


資料名：
NEC Research & Development  (NEC Research & Development)

NEC Research & Development について


号： 94  ページ： 1-7  発行年： 1989年07月 
JST資料番号： G0138A  ISSN： 0547-051X  CODEN： NECRA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標記薄膜製作用に新しいCVD法である有機ソースAPCVDを開...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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超LSI

超LSI について

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分類 (1件)：
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

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薄膜

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ソース

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