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J-GLOBAL ID：200902092002488764   整理番号：88A0081956

多結晶薄膜のイオンビームスパッタリング形成における固有応力のスケーリング則

An intrinsic stress scaling law for polycrystalline thin films prepared by ion beam sputtering.
著者 (1件)：
WINDISCHMANN H

WINDISCHMANN H について

(Standard Oil Co., OH, USA)

Standard Oil Co., OH, USA について


資料名：
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

Journal of Applied Physics について


巻： 62  号： 5  ページ： 1800-1807  発行年： 1987年09月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
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イオンビームスパッタリング

イオンビームスパッタリング について

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分類 (2件)：
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固体の機械的性質一般 
(BL01021C)

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,  薄膜成長技術・装置 
(BK14020I)

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多結晶薄膜

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イオンビームスパッタリング

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