回転円盤型化学蒸着リアクタ中の流体力学および気相化学の数学モデル

COLTRIN M E; KEE R J; EVANS G H

文献

J-GLOBAL ID：200902092638621618 整理番号：89A0338978

回転円盤型化学蒸着リアクタ中の流体力学および気相化学の数学モデル

A mathematical model of the fluid mechanics and gas-phase chemistry in a rotating disk chemical vapor deposition reactor.

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巻： 136 号： 3 ページ： 819-829 発行年： 1989年03月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

回転円盤型リアクタ中の流体力学と気相化学反応速度論の結合に対...

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薄膜一般 , 固体デバイス製造技術一般

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