文献

J-GLOBAL ID：200902093239984568   整理番号：91A0449132

CVD・EVD法を用いたYSZ薄膜の作製 II

The preparation of YSZ thin film by CVD EVD method. (II).

著者 (8件)： 佐々木博一 (大阪ガス) ,  大蔵正司 (大阪ガス) ,  鈴木稔 (大阪ガス) ,  矢川千織 (大阪ガス) ,  佐野浩司 (大阪ガス) ,  西谷慎一 (大阪ガス) ,  吉川保 (大阪ガス) ,  一本松正道 (大阪ガス)
資料名： 電気化学協会大会講演要旨集
巻： 58th  ページ： 173  発行年： 1991年03月 
JST資料番号： Y0048A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (4件)： CVD ,  YSZ ,  薄膜 ,  作製