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J-GLOBAL ID：200902093372212900   整理番号：88A0331373

フォトファブリケーションのレジスト材料とプロセス

Photo-resist material and process for Photo-Fabrication.

著者 (1件)： 橋本貴夫 (大日本印刷 ミクロ製品研)
資料名： 日本印刷学会誌  (Journal of Printing Science and Technology)
巻： 25  号： 3  ページ： 133-143  発行年： 1988年04月 
JST資料番号： G0233A  ISSN： 0914-3319  CODEN： NIGAEV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 金属やガラスなどの薄板に孔あけあるいは溝加工を施す方法は種々...

シソーラス用語： 金属板 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (47件)：

• 1) 橋本貴夫: “図解・フォトファブリケーション” 総合電子出版社, pp. 15-238 (1986).
• 2) 佐藤敏一: “金属エッチング技術” 槙書店, pp. 68-223 (1975).
• 3) “印刷工学便覧” 日本印刷学会, 技報堂出版, pp. 1143-1164 (1983).
• 4) 楢岡清威: “エレクトロニクスの精密微細加工” 総合電子出版社, pp. 64-133 (1983).
• 5) 鳳紘一郎: “半導体リソグラフィ技術” 産業図書, pp. 1-14 (1986).

タイトルに関連する用語 (3件)： フォトファブリケーション ,  レジスト材料 ,  プロセス