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J-GLOBAL ID：200902093455532892   整理番号：86A0548943

カソード電流によるpH上昇を利用したシリカスケールの付着防止

Inhibition of silica deposition by pH increase due to cathodic current.

著者 (3件)： 米谷道夫 (東北工技試) ,  白石正夫 (東北工技試) ,  池庄司民夫 (東北工技試)
資料名： 日本化学会誌  (化学と工業化学)
号： 8  ページ： 1065-1068  発行年： 1986年08月 
JST資料番号： F0226B  ISSN： 0369-4577  CODEN： NKAKB8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シリカの付着する面をカソードとしてシリカ溶液を電解し,シリカ...

シソーラス用語： pH依存性 ,...
準シソーラス用語： シリカ

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分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  ボイラ付属装置  (PB01030G)

引用文献 (14件)：

• 1)湯原浩三監修, “地熱開発総合ハンドブック”, フジテクノシステム(1982)p. 542.
• 2) J. C. Cowan, D. J. Weintritt, “Water-Formed Scale Deposits”, Gulf Publishing Company, Book Divis i on, Houston, Texas (1976) p. 204.
• 3)昭和51年度サンシヤイン計画委託研究開発成果報告書, “地熱熱水からのスケール付着を防止する技術の研究開発”, 九州電力株式会社(1977).
• 4)昭和55年度サンシヤイン計画委託研究開発成果報告書, “地熱熱水からのスケール付着を防止する技術の研究開発”, 九州電力株式会社, 三井金属鉱業株式会社(1981).
• 5) H. P. Rothbaum, B. H. Anderson, R. F. Harrison, A. G. Rohde, A. Slatter, Geothermics, 8, 1(1979).

タイトルに関連する用語 (4件)： カソード ,  pH ,  シリカスケール ,  付着防止