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J-GLOBAL ID：200902093665343014   整理番号：85A0381206

電子線,イオン,X線レジスト

Electron beam, ion and X-ray regist.
著者 (1件)：
田川精一

田川精一 について

(東大原子力研総セ)

東大原子力研総セ について


資料名：
分光研究  (Journal of the Spectroscopical Society of Japan)

分光研究 について


巻： 34  号： 4  ページ： 243-245  発行年： 1985年08月 
JST資料番号： F0007A  ISSN： 0038-7002  CODEN： BUKKAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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フォトレジスト

フォトレジスト について

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シソーラス用語/準シソーラス用語
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X線レジスト

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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

引用文献 (15件)：
  • 1) “Polymers in Electronics” T. Davidson ed., ACS Symp.Series No.242 (1984)
  • 2) “Materials for Microlithography” L. F. Thompson, C.G. Wilson, and J.M.J. Frechet, ACS Symp.Series No.266 (1984)
  • 3) 「高分子の放射線化学反応と超微細加工への応用」東京大学工学部原子力工学研究施設短期研究会報告書, UTNL-R171 (1985)
  • 4) 村瀬啓, 高分子, 34, 296 (1985)
  • 5) 野々垣三郎, 高分子, 33, 824 (1984)
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タイトルに関連する用語 (4件)：
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X線

X線 について

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レジスト

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