文献

J-GLOBAL ID：200902094480247325   整理番号：92A0727626

プラズマCVD法による硬質低摩擦DLC-Si膜の密着性

Adhesion of hard low-friction DLG-Si coatings formed by plasma-assisted CVD.

著者 (2件)： 小栗和幸 (豊田中研) ,  新井透 (豊田中研)
資料名： 材料とプロセス  (日本鉄鋼協会講演論文集)
巻： 5  号： 5  ページ： 1758  発行年： 1992年09月 
JST資料番号： X0994A  ISSN： 0914-6628  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： プラズマCVD法により形成したDLC-Si(Siを含むダイヤ...

シソーラス用語： プラズマCVD ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=92A0727626&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=X0994A") }}

分類 (1件)： 気相めっき  (WC08022K)

タイトルに関連する用語 (5件)： プラズマCVD法 ,  低摩擦 ,  DLC ,  Si膜 ,  密着性