dcプレーナマグネトロンスパッタリング装置でのステップ被覆のシミュレーションと測定

BLECH I A; VANDER PLAS H A

文献

J-GLOBAL ID：200902094775936793 整理番号：84A0191975

dcプレーナマグネトロンスパッタリング装置でのステップ被覆のシミュレーションと測定

Step coverage simulation and measurement in a dc planar magnetron sputtering system.

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資料名：
巻： 54 号： 6 ページ： 3489-3496 発行年： 1983年06月
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

回転基板を持つdcプレーナマグネトロンスパッタ装置でのステッ...

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薄膜成長技術・装置

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