文献
J-GLOBAL ID:200902095523797584   整理番号:86A0262670

半導体のレーザ焼なましの条件下の拡散

Диффузия в условиях лазерного отжига полупроводников.
著者 (1件):
資料名:
巻: 20  号:ページ: 361-363  発行年: 1986年02月 
JST資料番号: R0267A  ISSN: 0015-3222  CODEN: ETPPA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: ロシア (RUS)  言語: ロシア語 (RU)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
半導体構造に適当なエネルギー密度のレーザ光を照射したときに生...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
,...
   続きはJDreamIII(有料)にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=86A0262670&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=R0267A") }}
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
レーザ照射・損傷  ,  固体中の拡散一般 
タイトルに関連する用語 (2件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る