UHVシステムで製造した“きれいな”a-Si:H

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J-GLOBAL ID：200902095898692402 整理番号：84A0487366

“Clean” a-Si:H prepared in a UHV system.

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資料名：
巻： 66 号： 1/2 ページ： 45-50 発行年： 1984年07月
JST資料番号： D0642A ISSN： 0022-3093 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

通常の製造システムで作成したa-Si:Hは,多くの不純物(O...

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半導体薄膜

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