マグネトロンスパッタリング中の膜のエネルギー粒子衝撃

ROSSNAGEL S M

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J-GLOBAL ID：200902098834408637 整理番号：89A0464664

マグネトロンスパッタリング中の膜のエネルギー粒子衝撃

Energetic particle bombardment of films during magnetron sputtering.

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資料名：
巻： 7 号： 3 Pt.1 ページ： 1025-1029 発行年： 1989年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

マグネトロンスパッタリング中に試料位置を衝撃するエネルギー中...

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金属薄膜 , プラズマ応用

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