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J-GLOBAL ID：200902099866158183   整理番号：86A0243637

磁界圧着形マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr垂直磁化膜の作成と特性

Preparation and characteristics of Co-Cr films with perpendicular magnetization by CMF-magnetron sputtering.

著者 (5件)： 畑とも延 (金沢大工) ,  高橋隆一 (富山大工) ,  大坪勝昭 (金沢大工) ,  喜多豊 (金沢大工) ,  波田敏雄 (金沢大工)
資料名： 電子通信学会論文誌 C  (Transactions of the Institute of Electronics and Communication Engineers of Japan. C)
巻： 69  号： 1  ページ： 120-125  発行年： 1986年01月 
JST資料番号： S0623A  ISSN： 0373-6113  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 標記方法による磁性体薄膜の高速作成はターゲットが磁界をしゃへ...

シソーラス用語： 磁気記録 ,...
準シソーラス用語： 圧力依存性 ,...

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分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  絶縁材料  (NA04030W)

タイトルに関連する用語 (6件)： 磁界 ,  圧着 ,  マグネトロンスパッタ法 ,  CO ,  Cr ,  垂直磁化