文献
J-GLOBAL ID:200902100418286721
整理番号:94A0195641
シリコンウェーハ表面金属不純物の深さ方向分布及び状態分析
Distribution and state analysis of metallic impurities on Si wafer surface.
-
出版者サイト
複写サービスで全文入手
-
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0195641&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0055A") }}