文献

J-GLOBAL ID：200902100418286721   整理番号：94A0195641

シリコンウェーハ表面金属不純物の深さ方向分布及び状態分析

Distribution and state analysis of metallic impurities on Si wafer surface.

著者 (4件)： 久保信之 (住友シチックス) ,  堀江浩 (住友シチックス) ,  角田成夫 (住友シチックス) ,  重松達彦 (住友シチックス)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 54th  号： 2  ページ： 702  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコン ,  ウェーハ表面 ,  金属不純物 ,  深さ方向 ,  分布 ,  状態分析