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J-GLOBAL ID：200902101078229490   整理番号：96A0961482

真空技術の最新動向 真空薄膜形成装置の特徴と応用

Latest trends of the vacuum technologies. Characteristics and applications of vacuum thin film formation equipments.
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著者 (1件)：
大工原茂樹

大工原茂樹 について

(シンクロン)

シンクロン について


資料名：
電子材料  (Electronic Parts and Materials)

電子材料 について


巻： 35  号： 11  ページ： 53-57  発行年： 1996年11月 
JST資料番号： F0040A  ISSN： 0387-0774  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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真空蒸着,イオンプレーティング,スパッタリング,化学蒸着の各...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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真空技術

真空技術 について

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分類 (1件)：
分類
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薄膜成長技術・装置 
(BK14020I)

薄膜成長技術・装置 について

タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
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真空技術

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最新動向

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真空薄膜形成装置

真空薄膜形成装置 について

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応用

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