文献

J-GLOBAL ID：200902101306924730   整理番号：96A0579019

AFMで調べたふっ化水素溶液からSi(100)上への白金の無電解堆積の初期段階

First stages of platinum electroless deposition on silicon(100) from hydrogen fluoride solutions studied by AFM.

著者 (4件)： GOROSTIZA P (Fac. Fisica, Barcelona, ESP) ,  SERVAT J (Fac. Fisica, Barcelona, ESP) ,  MORANTE J R (Fac. Fisica, Barcelona, ESP) ,  SANZ F (Univ. Barcelona, Barcelona, ESP)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 275  号： 1/2  ページ： 12-17  発行年： 1996年04月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記のPt堆積をAFM,TEM,XPS及びEDSで調べた。P...

シソーラス用語： 白金 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=96A0579019&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0899A") }}

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (8件)： AFM ,  ふっ化水素 ,  溶液 ,  Si ,  白金 ,  電解 ,  堆積 ,  初期段階