イオンビームスパッタリングによるLaCoO<sub>3</sub>薄膜の作製及び電気特性

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J-GLOBAL ID：200902101380181498 整理番号：01A0508619

イオンビームスパッタリングによるLaCoO₃薄膜の作製及び電気特性

Fabrication and electric properties of LaCoO₃ thin films by ion-beam sputtering.

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巻： 388 号： 1/2 ページ： 183-188 発行年： 2001年06月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

La₂O₃とCo...

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酸化物薄膜 , 半導体結晶の電気伝導

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