文献
J-GLOBAL ID：200902101647084349   整理番号：95A0481298

LSI製造における静電気問題と対策

Problems of Static Electricity for LSI Manufacturing and Its Solutions.
著者 (1件)：
辻幹生

辻幹生 について

(NEC)

NEC について


資料名：
静電気学会誌  (Journal of the Institute of Electrostatics Japan)

静電気学会誌 について


巻： 19  号： 1  ページ： 28-34  発行年： 1995年01月 
JST資料番号： S0175A  ISSN： 0386-2550  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
LSI製造における静電気の影響は,帯電による絶縁破壊やウエハ...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
LSI【IC】

LSI【IC】 について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
イソプロピルアルコール

イソプロピルアルコール について


   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=95A0481298&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0175A") }}
分類 (1件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス計測・試験・信頼性 
(NC03040G)

固体デバイス計測・試験・信頼性 について

引用文献 (28件)：
  • 辻幹生. 次世代 ULSI 製造のための表面反応プロセス. 1994, 200
  • 真壁猛夫. 超純水の科学. 1990, 379
  • HARARI, E. J. Appl. Phys. 1978, 49, 2478
  • KIM, S. U. Proc. 1992 EOS/ESD Symp. 1992, 99
  • GREASON, W. D. Proc. 1992 EOS/ESD Symp. 1992, 106
もっと見る
タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
LSI

LSI について

, 
静電気

静電気 について

, 
対策

対策 について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM