ナノ圧痕系を用いた薄膜の磁気ひずみの正確な測定

SHIMA T; FUJIMORI H

文献

J-GLOBAL ID：200902102116782072 整理番号：00A0015722

ナノ圧痕系を用いた薄膜の磁気ひずみの正確な測定

An accurate measurement of magnetostriction of thin films by using nano-indentation system.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=00A0015722&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0015722&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=A0339B") }}

著者 (2件)： ,
資料名：
巻： 35 号： 5,Pt.2 ページ： 3832-3834 発行年： 1999年09月
JST資料番号： A0339B ISSN： 0018-9464 CODEN： IEMGAQ 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

薄膜の磁気ひずみ測定用の簡単で高感度なツールを作った。このツ...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0015722&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=A0339B") }}

磁性体測定技術・装置

, ,

前のページに戻る