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J-GLOBAL ID：200902102443943268   整理番号：98A0245635

CVDにより作製した炭素質薄膜とその炭素/N形けい素(C/N-Si)光起電力電池への応用

A carbonaceous thin film made by CVD and its application for a carbon/n-type silicon(C/n-Si) photovoltaic cell.

著者 (5件)： YU H A (ERATO, Shizuoka, JPN) ,  KANEKO T (Tokai Univ., Shizuoka, JPN) ,  OTANI S (Tokai Univ., Shizuoka, JPN) ,  SASAKI Y (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  YOSHIMURA S (ERATO, Shizuoka, JPN)
資料名： Carbon  (Carbon)
巻： 36  号： 1/2  ページ： 137-143  発行年： 1998年 
JST資料番号： H0270B  ISSN： 0008-6223  CODEN： CRBNA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2,5ジメチル-p-ベンゾキノンの500~1000°CでのCV...

シソーラス用語： *炭素材 ,...
準シソーラス用語： ベンゾキノン誘導体

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分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

物質索引 (1件)： 2,5-ジメチル-1,4-ベンゾキノン

タイトルに関連する用語 (9件)： CVD ,  作製 ,  炭素質 ,  薄膜 ,  炭素 ,  けい素 ,  Si ,  光起電力電池 ,  応用