文献

J-GLOBAL ID：200902102627509323   整理番号：98A0613394

分子線エピタキシー法でKBr,雲母基板上に作製したバナジルフタロシアニン単結晶の評価

Characterization of Vanadyl-Phthalocyanine Single Crystal Films Grown on KBr and Muscovite Mica by Molecular Beam Epitaxy.

著者 (9件)： 前田昭徳 (愛知工大) ,  古橋秀夫 (愛知工大) ,  吉川俊夫 (愛知工大) ,  内田悦行 (愛知工大) ,  小嶋憲三 (愛知工大) ,  大橋朝夫 (愛知工大) ,  落合鎮康 (愛知工大) ,  家田正之 (愛知工大) ,  水谷照吉 (名古屋大 工)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 118-A  号： 5  ページ： 464-474  発行年： 1998年05月 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 非線形光学材料として二次,三次高調波を発生する大きなバナジル...

シソーラス用語： *非線形光学材料 ,...
準シソーラス用語： バナジルフタロシアニン

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=98A0613394&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0808A") }}

分類 (1件)： その他の光デバイス  (BD06060O)

引用文献 (9件)：

• M. Hosoda. Phases and Third-Order Optical Nonlinearities in Tetravalent Metallophtha locyanine Thin Films. Jpn. J. Appl. Phys. 1991, 30, 8B, L.1486-1488
• H. Tada. Preparation and Characterization of Vanadyl-Phthalocyanine Ultrathin Films Grown on KBr and Kcl by Molecular Beam Epitaxy. Jpn. J. Appl. Phys. 1991, 30, 2B, L306-L308
• H. Hoshi. Epitaxial Growth of Chloroaluminum and Vanadyl Phthalocyanine Films on Alkali Halide Single Cryatals by the Molecular-Beam-Epitaxy Technique. J. Appl. Phys. 1991, 69, 5, 3049-3052
• H. Hoshi. Dependence of the Epitaxial Structure of Vanadyl Phthalocyanine Film. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, L1555-L1558
• C. H. Griffiths. Polymorphism in Vanadyl Phthalocyanine. Mol. Cryst. LIq. Cryst. 1976, 33, 149-170

タイトルに関連する用語 (6件)： 分子線エピタキシー法 ,  KBr ,  雲母 ,  作製 ,  単結晶 ,  評価