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J-GLOBAL ID：200902103618434813   整理番号：94A0028137

シリコン上のBaSi₂及びアルカリ土類シリサイド薄膜

BaSi₂ and thin film alkaline earth silicides on silicon.

著者 (4件)： MCKEE R A (Oak Ridge National Lab., Tennessee) ,  WALKER F J (Oak Ridge National Lab., Tennessee) ,  CONNER J R (Cornell Univ., New York) ,  RAJ R (Cornell Univ., New York)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 63  号： 20  ページ： 2818-2820  発行年： 1993年11月15日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルカリ土類金属とSiの表面反応とエピタキシャル構造の発達を...

シソーラス用語： ケイ素 ,...
準シソーラス用語： けい化バリウム ,...

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  半導体-金属接触  (BM03084G)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリコン ,  アルカリ土類 ,  シリサイド ,  薄膜