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J-GLOBAL ID：200902104419047521   整理番号：94A0369030

修飾バイアススパッタリングによる多結晶金属テープ上への面内組織化Y₂O₃ドープZrO₂薄膜の作製

Preparation of in-plane textured Y₂O₃-doped ZrO₂ thin film on polycrystalline metallic tape by modified bias sputtering.

著者 (4件)： AOKI S (National Research Inst. Metals, Ibaraki, JPN) ,  FUKUTOMI M (National Research Inst. Metals, Ibaraki, JPN) ,  KOMORI K (National Research Inst. Metals, Ibaraki, JPN) ,  MAEDA H (National Research Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 12  号： 2  ページ： 501-505  発行年： 1994年03月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 面内組織をもつイットリア安定化ジルコニア(YSZ)膜をハステ...

シソーラス用語： 酸化イットリウム ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  超伝導材料  (BM04041W)

タイトルに関連する用語 (11件)： 修飾 ,  バイアス ,  スパッタリング ,  多結晶 ,  テープ ,  組織化 ,  Y2O3 ,  ドープ ,  ZrO2 ,  薄膜 ,  作製