強誘電性薄膜集積化のためのシリコン上Pt/Ti二層メタライゼーションの研究

SREENIVAS K; REANEY I; MAEDER T; SETTER N; JAGADISH C; ELLIMAN R G

文献

J-GLOBAL ID：200902104493932936 整理番号：94A0139206

強誘電性薄膜集積化のためのシリコン上Pt/Ti二層メタライゼーションの研究

Investigation of Pt/Ti bilayer metallization on silicon for ferroelectric thin film integration.

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資料名：
巻： 75 号： 1 ページ： 232-239 発行年： 1994年01月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Pt/Ti二層メタライゼーションの酸化雰囲気中での安定性を,...

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半導体-金属接触

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