文献
J-GLOBAL ID:200902104536957660
整理番号:97A0190277
分子ビームエピタクシーによって作製した半導性Mg2Si薄膜
Semiconducting Mg2Si thin films prepared by molecular-beam epitaxy.
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著者 (4件):
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資料名:
巻:
54
号:
23
ページ:
16965-16971
発行年:
1996年12月15日
JST資料番号:
D0746A
ISSN:
1098-0121
CODEN:
PRBMDO
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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Mg
2Si薄膜の成長を研究した。シリコ...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜
, 半導体の赤外スペクトル及びRaman散乱・Ramanスペクトル
, 半導体結晶の電子構造
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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