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J-GLOBAL ID：200902105730654250   整理番号：95A0155463

タングステン上における銅の気相蒸着の電界イオン顕微鏡研究

A field ion microscope study on vapor deposition of copper on tungsten.

著者 (4件)： MORIKAWA H (Nagoya Inst. Technology, Nagoya, JPN) ,  KOKURA M (Nagoya Inst. Technology, Nagoya, JPN) ,  IWATSU F (Nagoya Inst. Technology, Nagoya, JPN) ,  TERAO T (Nagoya Inst. Technology, Nagoya, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 254  号： 1/2  ページ： 103-110  発行年： 1995年01月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Wチップキャップの半分に気相蒸着したCu薄膜をFIM観察した...

シソーラス用語： 電界イオン顕微鏡 ,...

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分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  顕微鏡法  (BK01040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： タングステン ,  銅 ,  気相蒸着 ,  電界イオン顕微鏡 ,  研究