Evaluation of Cycloolefin-Maleic Anhydride Alternating Copolymers as Single-Layer Photoresists for 193nm Photolithography.

文献

J-GLOBAL ID：200902105965518485 整理番号：96A0961269

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資料名：
巻： 2724 ページ： 355-364 発行年： 1996年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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