文献

J-GLOBAL ID：200902106089479384   整理番号：00A0240136

極端紫外領域における種々の重合体の光吸収の理論計算

Theoretical Calculation of Photoabsorption of Various Polymers in an Extreme Ultraviolet Region.

著者 (9件)： MATSUZAWA N N (Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET) Atsugi, JPN) ,  OIZUMI H (Pacific Northwest National Lab., WA, USA) ,  MORI S (Pacific Northwest National Lab., WA, USA) ,  IRIE S (Pacific Northwest National Lab., WA, USA) ,  SHIRAYONE S (Pacific Northwest National Lab., WA, USA) ,  YANO E (Pacific Northwest National Lab., WA, USA) ,  OKAZAKI S (Pacific Northwest National Lab., WA, USA) ,  ISHITANI A (Pacific Northwest National Lab., WA, USA) ,  DIXON D A (Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET) Atsugi, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38  号： 12B  ページ： 7109-7113  発行年： 1999年12月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 13nmでの質量吸収係数とBiceranoが導出したグラフ理...

シソーラス用語： 真空紫外線 ,...
準シソーラス用語： ポリヒドロキシスチレン

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分類 (2件)： 試料技術  (BA02070O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (18件)：

• 1) T. Watanabe and H. Kinoshita: FED J. 8 (1997) 51.
• 2) A. M. Hawryluck, N. M. Ceglio and D. A. Markle: Microlithogr. World Summer (1997) 17.
• 3) A. M. Hawryluck, N. M. Ceglio and D. A. Markle: Solid State Technol. Aug (1997) 75, and 151.
• 4) W. M. Mansfield, J. E. Bjorkholm, A. A. MacDowell, R. R. Freeman, L. H. Szeto, G. N. Taylor, D. M. Tennant, W. K. Waskiewicz, D. L. Windt, D. L. White, O. R. Wood II, R. M. D'Souza and A. R. Neureuther: OSA Proc. Soft-X-Ray Projection Lithogr. 12 (1991) 129.
• 5) G. D. Kubiak, E. M. Kneedler, R. Q. Hwang, M. T. Schulberg, K. W. Berger, J. E. Bjorkholm and W. M. Mansfield: J. Vac. Sci. Technol. B 10 (1992) 2593.

タイトルに関連する用語 (4件)： 紫外領域 ,  重合体 ,  光吸収 ,  理論計算