キトサンの化学修飾 12  化学めっきのためのパラジウム吸収剤に向けての有機-可溶キトサン誘導体の合成

SASHIWA H; KAWASAKI N; NAKAYAMA A; MURAKI E; YAMAMOTO N; ARVANITOYANNIS I; ZHU H; AIBA S

文献

J-GLOBAL ID：200902106420905933 整理番号：02A0518262

キトサンの化学修飾 12 化学めっきのためのパラジウム吸収剤に向けての有機-可溶キトサン誘導体の合成

Chemical Modification of Chitosan 12¹: Synthesis of Organo-soluble Chitosan Derivatives toward Palladium Absorbent for Chemical Plating.

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資料名：
号： 6 ページ： 598-599 発行年： 2002年06月05日
JST資料番号： S0742A ISSN： 0366-7022 CODEN： CMLTAG 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

キトサンをメタンスルホン酸中で種々の酸塩化物で処理した。生成...

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多糖類 , 無電解めっき

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引用文献 (8件)：

1) a) Part 11 of this series: H. Sashiwa, Y. Shigemasa, and R. Roy, Carbohydr. Polym., (2002) in press.
b) Part 10: H. Sashiwa, Y. Shigemasa, and R. Roy, Macromolecules, 34, 3905 (2001).
2) T. Hamaya, Kobunshi Ronbunshu, 47, 649 (1990).
3) Selected data for 2b: ¹H NMR (0.5 M DCl/D₂O) δ 2.0–2.1 (brm, 4.35 H, NHAc), 3.2 (s, 0.59 H, H-2 of GlcN residue), 3.3–4.3 (m, 5.41 H, H-2, 3, 4, 5, 6 of chitosan except for H-2 of GlcN); ¹³C NMR δ 23.7, 23.9, and 25.0 (OAc and NHAc), 56.8–58.0 (C-2 of chitosan), 61.8 (C-6), 64.3 (C-6S), 73.4–74.5 (C-3), 73.3–76.6 (C-5), 79.2–81.1 (C-4), 102.5–103.1 (C-1), 175.4–176.3 (NHCO and OCO). Data for 4: ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.90 (s, 4.32 H, CH₃), 1.31 [s, 5.76 H, CH₂ (χ, δ)], 1.62 [s, 2.88 H, CH₂ (β)], 1.9-2.1 (brm, 0.15 H, NHAc), 2.34 [s, 2.88 H, CH₂ (α)], 2.7-2.8 (br, 0.79 H, H-2 of GlcN), 3.3–5.2 (m, 6.21 H, H-1-6 of chitosan except for H-2 of GlcN); ¹³C NMR δ 13.93 (CH₃), 22.32 and 22.42 [CH₂ (δ)], 24.46, 24.51, and 24.58 [CH₂ (χ) and NHAc], 31.29 and 31.44 [CH₂ (β)], 33.94 and 34.14 [CH₂ (α)], 56.0–56.5 (C-2), 62.0–63.0 (C-6 and C-6S), 73.3–75.4 (C-3 and C-5), 81.3–81.6 (C-4), 103.4–104.4 (C-1), 173.2–173.6 (NHCO and OCO).
4) T. Seo, Y. Ikeda, K. Torada, Y. Nakata, and Y. Shimomura, Chitin and Chitosan Res., 7, 212 (2001).

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