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J-GLOBAL ID：200902107892566039   整理番号：94A0598421

N-ヒドロキシフタルイミドスチレンスルホン酸エステル基含有化学増幅フォトレジストの調製及びそれらの性質

Preparation of chemically amplified photoresists with N-hydroxyphthalimide styrenesulfonate groups and their properties.

著者 (2件)： CHAE K H (Chonnam National Univ., Kwangju, KOR) ,  OH Y J (Chonnam National Univ., Kwangju, KOR)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 7  号： 1  ページ： 183-186  発行年： 1994年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： N-ヒドロキシフタルイミド(HPS)が分解しスルホン酸ができ...

シソーラス用語： フォトレジスト ,...
準シソーラス用語： 化学増幅フォトレジスト ,...

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分類 (2件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (7件)：

• 1). G. Berner, R. Kirchmayr, G. Rist, and W. Rutsch, J. Rad. Curing, 13, 10 (1986).
• 2). M. Shirai, T, Masuda, M. Tsunooka, and M. Tanaka, Macromol. Chem. Rapid Commun., 5, 689 (1984).
• 3). F. M. Houlihan, A, Shugard, R. Gooden, E. Reichmanis, Macromolecules, 21, 2001 (1988).
• 4). W. Brunsvold, R. Kwong, W. Montgomery, W. Moreau, H. Sachdev, K. Welsh, Proc, SPIE, 1262, 162 (1990).
• 5). K. H. Chae, I. K. Park, and M. H. Choi, Bull. Korean Chem. Soc., 15, 614 (1993).

タイトルに関連する用語 (8件)： N-ヒドロキシフタルイミド ,  スチレンスルホン酸 ,  エステル基 ,  化学 ,  増幅 ,  フォトレジスト ,  調製 ,  性質