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J-GLOBAL ID:200902108109178621   整理番号:96A0656200

SiC結晶成長における最近の進展

Recent progress in SiC crystal growth.
著者 (4件):
資料名:
号: 142  ページ: 17-22  発行年: 1996年 
JST資料番号: E0403B  ISSN: 0305-2346  CODEN: IPHSAC  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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比較的大型(30mm)のSiCウエハが市販されるようになった...
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分類 (2件):
分類
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半導体の結晶成長  ,  半導体薄膜 
タイトルに関連する用語 (3件):
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