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J-GLOBAL ID：200902108635075900   整理番号：01A0503829

60keVの高フラックス銅負イオン注入によって誘起されたX線発生

X-Ray Emission Induced by 60 keV High-Flux Copper Negative-Ion Implantation.

著者 (5件)： AMEKURA H (National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN) ,  VOITSENYA V (Inst. Plasma Physics, Kharkov, UKR) ,  LAY T T (National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN) ,  TAKEDA Y (National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN) ,  KISHIMOTO N (National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 40  号： 2B  ページ： 1094-1096  発行年： 2001年02月28日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリカガラス中への標記イオン注入によって誘起されたX線発生を...

シソーラス用語： *X線発生 ,...

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分類 (2件)： その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

引用文献 (8件)：

• 1) J. Ishikawa, H. Tsuji, Y. Toyota, Y. Gotoh, K. Matsuda, T. Tanjo and S. Sasaki: Nucl. Instrum. & Methods <B>B96</B> (1995) 7.
• 2) N. Kishimoto, Y. Takeda, N. Umeda, V. T. Gritsyna, C. G. Lee and T. Saito: Nucl. Instrum. & Methods <B>B166-167</B> (2000) 840, and references therein.
• 3) T. T. Lay, H. Amekura, Y. Takeda and N. Kishimoto: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 569 (1999) 191.
• 4) Y. Mori, A. Takagi, K. Ikegami, A. Ueno and S. Fukumoto: Nucl. Instrum. & Methods <B>B37-38</B> (1989) 63.
• 5) J. F. Ziegler, J. P. Biersack and U. Littmark: The Stopping and Range of Ions in Solids (Pergamon Press, New York, 1985).

タイトルに関連する用語 (6件)： フラックス ,  銅 ,  負イオン ,  注入 ,  誘起 ,  X線発生