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J-GLOBAL ID：200902109236094492   整理番号：02A0233318

SiO₂膜形成用プレカーサー溶液の調製と金クラスター分散SiO₂膜形成への利用

Preparation of a Precursor Solution for SiO₂ Film Formation and Its Application to the Formation of Au Cluster-dispersed SiO₂ Films.

著者 (6件)： 望月千尋 (工学院大 工) ,  佐藤光史 (工学院大 工) ,  中村勲 (工学院大 工) ,  松原知宏 (工学院大 工) ,  吉田岳史 (工学院大 工) ,  大槻哲也 (ナガセケムテックス)
資料名： 日本化学会誌  (化学と工業化学)
号： 2  ページ： 135-140  発行年： 2002年02月10日 
JST資料番号： F0226B  ISSN： 0369-4577  CODEN： NKAKB8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： エタノール中で,テトラエトキシシランとグルコースを反応させ,...

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  塩  (CD01050V)

物質索引 (3件)： テトラエトキシシラン ,  グルコース ,  エタノール

引用文献 (17件)：

• 1) 作花済夫,電気化学,60, 754 (1992).
• 2) S. Okuzaki, K. Okude, T. Ohishi, J. Non-Cryst. Solids, 265, 61 (2000).
• 3) T. Ohkawa, Y. Tago, Appl. Phys. Lett., 55, 837 (1989).
• 4) 権田俊一監修,“薄膜作製応用ハンドブック”,エヌ · ティー · エス,第2章 (1995).
• 5) 作花済夫,“ゾル-ゲル法の科学”,アグネ承風社,第2章 (1988).

タイトルに関連する用語 (6件)： SiO2 ,  膜形成 ,  プレカーサー ,  溶液 ,  調製 ,  金クラスター