文献

J-GLOBAL ID：200902109462753210   整理番号：02A0680758

高E/n領域の放電によるPTFEの表面処理 処理表面の化学的安定性

Surface Processing of PTFE using Discharge under High E/n Condition. Chemical Stability of Processed Surface.

著者 (4件)： 浜村尚樹 (武蔵工大) ,  梶谷正史 (武蔵工大) ,  湯本雅恵 (武蔵工大) ,  堺孝夫 (武蔵工大)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 122-A  号： 8  ページ： 742-747  発行年： 2002年08月01日 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 窒素雰囲気中の高E/n領域の放電を用いて安定な高分子材料であ...

シソーラス用語： *ポリテトラフルオロエチレン ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0680758&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0808A") }}

分類 (1件)： 表面処理  (YH04112X)

引用文献 (16件)：

• YUMOTO. Electron energy distribution of glow-like discharge in nitrogen at very high E/n conditions. J. Phys. D : Appl. Phys. 1991, 24, 1594-1599
• KAWADA, S. Simulation and Elimination of Metastable Molecules in N_2 gas discharge under high E/n. 電学論 A. 1996, 116, 11, 982-987
• SAKAI, T. Processing of polymer surface by low pressure discharge in gases. 電学論 A. 1991, 112, 8, 718-723
• 浜村. 低気圧放電による PTFE の表面処理. 電学論 A. 1993, 113, 4, 330-335
• 浜村. 高分子表面処理における改質層の深さ方向分布. 電学論 A. 2000, 120, 4, 484-489

タイトルに関連する用語 (4件)： 放電 ,  PTFE ,  表面処理 ,  化学的安定性