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J-GLOBAL ID：200902109655392169   整理番号：01A0728562

局所方位解析技術を活かした材料組織制御の新展開 EBSP法の基本原理と最近のナノビーム化の利点

著者 (1件)： 鈴木清一 (テクセムラボラトリーズ)
資料名： まてりあ  (Materia Japan)
巻： 40  号： 7  ページ： 612-616  発行年： 2001年07月20日 
JST資料番号： F0163A  ISSN： 1340-2625  CODEN： MTERE2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： EBSP(電子後方散乱像)法の原理と特徴,及びShottky...

シソーラス用語： *電子回折 ,...
準シソーラス用語： EBSP ,...

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分類 (1件)： 電子回折法  (BK01030T)

引用文献 (9件)：

• ADARNUS, B. L. Metall. Trans. A. 1993, 24A, 819
• COATES, D. G. Philos. Mag. 1969, 16, 1179
• 井口征夫. 日本金属学会誌. 1986, 50, 874
• SCHWARTZ, A. J. Electron Backscatter Diffraction in Material Science. 2000
• 梅澤修. 軽金属. 2000, 50, 86

タイトルに関連する用語 (8件)： 方位 ,  解析 ,  組織制御 ,  展開 ,  EBSP法 ,  原理 ,  ナノビーム ,  利点