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J-GLOBAL ID：200902109699642898   整理番号：02A0466968

イオンマイクロビーム照射したシリカガラスにおける欠陥分布と屈折率変化

著者 (9件)： 西川宏之 (芝浦工大) ,  惣野崇 (芝浦工大) ,  山口喬之 (東京都大 工) ,  渡辺英紀 (東京都大 工) ,  服部雅晴 (早稲田大 理工) ,  大木義路 (早稲田大 理工) ,  及川将一 (原研 高崎研) ,  神谷富裕 (原研 高崎研) ,  荒川和夫 (原研 高崎研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 49th  号： 2  ページ： 916  発行年： 2002年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *石英ガラス ,...

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分類 (3件)： その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： イオン ,  マイクロビーム照射 ,  シリカガラス ,  欠陥 ,  分布 ,  屈折率変化