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J-GLOBAL ID：200902110169202550   整理番号：00A0255484

Ti金属基板上へのヒドロキシアパタイト被覆層のイオンビーム沈着(IBAD)

Ion-beam-assisted deposition(IBAD) of hydroxyapatite coating layer on Ti-based metal substrate.

著者 (3件)： CHOI J-M (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  KIM H-E (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  LEE I-S (Res. Center of Orthopaedic & Rehabilitation Engineering, Inchon, KOR)
資料名： Biomaterials  (Biomaterials)
巻： 21  号： 5  ページ： 469-473  発行年： 2000年03月 
JST資料番号： C0964B  ISSN： 0142-9612  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子ビームによるヒドロキシアパタイト標的気化とArイオンビー...

シソーラス用語： *ヒドロキシアパタイト ,...
準シソーラス用語： イオンビーム沈着 ,...

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分類 (1件)： 医用素材  (GA05040H)

タイトルに関連する用語 (6件)： Ti ,  金属基板 ,  ヒドロキシアパタイト被覆 ,  イオンビーム ,  沈着 ,  IBAD