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J-GLOBAL ID：200902111478731874   整理番号：99A0943038

新しいタイプの光塩基発生剤,ジベンゾフェノンオキシムヘキサメチレンジウレタンの光分解反応機構

Photolysis reaction mechanism of dibenzophenoneoxime hexamethylenediurethane, a new type of photobase generator.
著者 (3件)：
HWANG H

HWANG H について

(Seoul National Univ., Seoul, KOR)

Seoul National Univ., Seoul, KOR について

, 
JANG D-J

JANG D-J について

(Seoul National Univ., Seoul, KOR)

Seoul National Univ., Seoul, KOR について

, 
CHAE K H

CHAE K H について

(Chonnam National Univ., Chonnam, KOR)

Chonnam National Univ., Chonnam, KOR について


資料名：
Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry  (Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)

Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry について


巻： 126  号： 1/3  ページ： 37-42  発行年： 1999年09月 
JST資料番号： D0721B  ISSN： 1010-6030  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標記化合物(1)の光化学および光物理現象をレーザ閃光分解によ...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*オキシムエステル

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シソーラス用語/準シソーラス用語
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橋架け

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分類 (1件)：
分類
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光化学反応,ラジカル反応 
(CF02090A)

光化学反応,ラジカル反応 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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光塩基発生剤

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光分解反応

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