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J-GLOBAL ID：200902112138067798   整理番号：97A1002531

集束イオンビーム技術を用いた0.35μm i-lineによるハーフトーン型PSMマスク修復

0.35μm i-line attenuated PSM mask repair by focused ion beam technology.

著者 (4件)： RAPHAELIAN M L (One Corp., MA) ,  ELLIS M (One Corp., MA) ,  FERRANTI D (One Corp., MA) ,  STEWART D K (One Corp., MA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3096  ページ： 383-397  発行年： 1997年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： 集束イオンビーム技術 ,  LINE ,  ハーフトーン ,  PSM ,  マスク ,  修復