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J-GLOBAL ID：200902113017982754   整理番号：00A0692922

新規な光酸発生剤

Novel Photoacid Generators.

著者 (3件)： ASAKURA T (Ciba Specialty Chemicals K.K. Japan, Takarazuka, JPN) ,  YAMATO H (Ciba Specialty Chemicals K.K. Japan, Takarazuka, JPN) ,  OHWA M (Ciba Specialty Chemicals K.K. Japan, Takarazuka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13  号： 2  ページ： 223-230  発行年： 2000年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： g-line(436nm),i-line(365nm)及び深...

シソーラス用語： *光酸発生剤 ,...
準シソーラス用語： ネガティブ型レジスト ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (5件)： [2,5-ジヒドロ-5-(メチルスルホニルオキシイミノ)チオフェン-2-イリデン](2-メチルフェニル)アセトニトリル ,  [2,5-ジヒドロ-5-(プロピルスルホニルオキシイミノ)チオフェン-2-イリデン](2-メチルフェニル)アセトニトリル ,  プロピレングリコールメチルエーテルアセタート ,  トリフェニルスルホニウム・トリフェニルメタンスルホン酸 ,  トリフェニルスルホニウム

引用文献 (10件)：

• 1). For example, R. Dammel, "Diazonaphthoquinone-based Resists", Volume TT 11, SPIE Optical Engineering Press, Washington, D. C. (1993) p 9-96.
• 2). G. Buhr, R. Dammel and C. R. Lindley, Polym. Mater. Sci. Eng., 61 (1989) 269.
• 3). W. Brunsvold, W. Montgomery and B. Hwang, Proc. SPIE, 1466 (1991) 368.
• 4). T. Yamaoka, T. Omote, H. Adachi, N. Kikuchi, Y. Watanabe and T. Shirosaki, J. Photopolym. Sci. Technol., 3, 3 (1990) 275.
• 5). G. Berner and W. Rutsch, US patent 4540598.

タイトルに関連する用語 (1件)： 光酸発生剤