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J-GLOBAL ID：200902114315432917   整理番号：96A0909174

C膜上に直流マグネトロンスパッタリングによって作製したITO膜の結晶成長

Crystal growth of ITO films prepared by DC magnetron sputtering on C film.

著者 (3件)： MORIKAWA H (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  SUMI H (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  KOHYAMA M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 281/282  号： 1/2  ページ： 202-205  発行年： 1996年08月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ITO膜を室温で炭素膜上に直流マグネトロンスパッタリングによ...

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,...
準シソーラス用語： ITO【固溶体】

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 直流マグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  ITO膜 ,  結晶成長