Structurally variable cyclopolymers with excellent etch resistance and their application to 193nm lithography.

文献

J-GLOBAL ID：200902114939660159 整理番号：00A0908543

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巻： 3999 号： Pt.1 ページ： 23-30 発行年： 2000年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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