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J-GLOBAL ID：200902115960238404   整理番号：02A0493625

フェムト秒レーザーによる透明材料内部への微細パターン書き込みとその応用

Creation and Applications of Micropattern Inside Transparent Materials Using a Femtosecond Laser.

著者 (2件)： QIU J (科学技術振興事業団フォトンクラフトプロジェクト) ,  平尾一之 (京大 大学院工学研究科)
資料名： レーザー研究  (レーザー学会誌)
巻： 30  号： 5  ページ： 233-238  発行年： 2002年05月15日 
JST資料番号： X0335A  ISSN： 0387-0200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： フェムト秒レーザは超短レーザパルスと超高強度電界に基づく透明...

シソーラス用語： フェムト秒 ,...

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分類 (4件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  非線形光学  (BD05000T) ,  光集積回路,集積光学  (BD06050D)

引用文献 (26件)：

• STUART, B. C. Phys. Rev. Lett. 1995, 74, 2248
• CHICKOV, B. N. Appl. Phys. A. 1996, 63, 109
• MISAWA, H. Japanese Patent Application No. 023614. 1995
• DAVIS, K. M. Opt. Lett. 1996, 21, 1729
• GLEZER, E. N. Opt. Lett. 1996, 21, 2023

タイトルに関連する用語 (5件)： フェムト秒レーザー ,  透明材料 ,  微細パターン ,  書き込み ,  応用