エピタキシャルTiO<sub>2</sub>膜の超高真空有機金属化学蒸着とその場評価

CHEN S; MASON M G; GYSLING H J; PAZ-PUJALT G R; BLANTON T N; CASTRO T; CHEN K M; FICTORIE C P; EVANS J F

文献

J-GLOBAL ID：200902116799790220 整理番号：93A0912325

エピタキシャルTiO₂膜の超高真空有機金属化学蒸着とその場評価

Ultrahigh vacuum metalorganic chemical vapor deposition growth and in situ characterization of epitaxial TiO₂ films.

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巻： 11 号： 5 ページ： 2419-2429 発行年： 1993年09月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

2室超高真空系でチタン(IV)イソプロポキシドを出発物質とし...

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酸化物薄膜

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エピタキシャルTiO2膜の超高真空有機金属化学蒸着とその場評価

エピタキシャルTiO₂膜の超高真空有機金属化学蒸着とその場評価