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J-GLOBAL ID：200902116933175456   整理番号：97A0733224

有機シラン単分子層レジストの利用によるフォトリソグラフィーと原子間力顕微鏡リソグラフィーの結合

Combination of Photo and Atomic Force Microscope Lithographies by Use of an Organosilane Monolayer Resist.

著者 (2件)： SUGIMURA H (Nikon Co., Tsukuba, JPN) ,  NAKAGIRI N (Nikon Co., Tsukuba, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 36  号： 7B  ページ： L968-L970  発行年： 1997年07月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レジストとして有機シラン単層膜を用い,ミクロンおよびナノメー...

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： AFMリソグラフィー

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (13件)：

• 1) S. W. Park, H. T. Soh, C. F. Quate and S. Park: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 2415
• 2) J. P. Bourgoin, R. V. Sudiwala and S. Palacin: J. Vac. Sci. & Technol. B 14 (1996) 3381
• 3) H. Sugimura, K. Okiguchi, N. Nakagiri and M. Miyashita: J. Vac. Sci. & Technol. B 14 (1996) 4140
• 4) S. C. Minne, Ph. Flueckiger, H. T. Soh and C. F. Quate: J. Vac. Sci. & Technol. B 13 (1995) 1380
• 5) C. S. Dulcey, J. H. Georger, Jr., V. Krauthamer, D. A. Stenger, T. L. Fare and J. M. Calvert: Science 552 (1991) 551.

タイトルに関連する用語 (6件)： 有機シラン ,  単分子層 ,  レジスト ,  フォトリソグラフィー ,  原子間力顕微鏡 ,  リソグラフィー