文献
J-GLOBAL ID：200902117482512077
整理番号：00A0086141
周期的ガス添加を用いた高周波マグネトロンスパッタリングによる蒸着膜組成の精密制御
Fine control of deposition film compositions using radio-frequency reactive sputtering with periodic gas additions.
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著者 (3件)：
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資料名：
巻：
17
号：
6
ページ：
3312-3316
発行年：
1999年11月
JST資料番号：
C0789B
ISSN：
0734-2101
CODEN：
JVTAD6
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
言語：
英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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反応性ガスとしてN
2を用いたArプラズ...
シソーラス用語：
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準シソーラス用語：
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分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
その他の無機化合物の薄膜
, 金属材料へのセラミック被覆
タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
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