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J-GLOBAL ID：200902117964071680   整理番号：93A0851229

NA and σ Optimization for High NA I-line Lithography.

著者 (4件)： YAMANAKA K (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  IWASAKI H (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  NOZUE H (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  KASAMA K (NEC Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 1927  号： Pt 1  ページ： 310-319  発行年： 1993年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (2件)： Na ,  LINE